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MLCC(多层陶瓷电容器)叠层工艺与芯片清洗剂介绍

MLCC(多层陶瓷电容器)叠层工艺是其制造流程中的核心环节,通过将印刷有内电极的陶瓷介质膜片按特定错位方式叠合,形成三维电容结构。以下是叠层工艺的详细流程及关键要点:


一、叠层工艺流程

  1. 叠层准备

    • 介质膜片印刷:在陶瓷介质膜片上通过丝网印刷技术形成内电极图形,确保图形清晰且与介质层对齐。

    • 保护片添加:叠层时在巴块(生坯)底部和顶部覆盖陶瓷保护片,增强机械强度和绝缘性能。

  2. 叠层压制

    • 预压力:3-6KGF,确保层间初步粘合。

    • 主压参数:主压时间根据叠层数和材料粘性调整,高容量产品需延长压合时间以提高致密性。

    • 发热器温度:通过加热提高材料粘性,优化层间结合效果。

    • 错位堆叠:将印刷好的介质膜片按交替错位方式(如L型、S型、H型等)逐层堆叠,形成多层结构。错位数(层间偏移距离)直接影响电容容量和电气性能。

    • 压力与温度控制:

  3. 巴块处理

    • 层压均压:对压制后的巴块进行静水均压,消除内部应力,提升烧结后瓷体致密性。

    • 质量检查:检测巴块厚度、对位精度(移位量≤±5μm)及层间结合度,确保无分层、折角等缺陷。


二、关键工艺参数与优化

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  1. 预压条件

    • 预压时间:薄层叠合需延长压合时间(如高容量产品),避免分层。

    • 承载板预热:减少首层与保护盖的温差,降低移位风险。

  2. 剥离与张力控制

    • 剥离速度:50%-70%额定速度,根据膜片特性调整,防止拉伸或移位。

    • 膜带张力:根据膜片软硬调整,过大会导致拉伸,过小易斜叠。

  3. 设备与环境

    • 无尘环境:叠层需在无尘车间进行,避免异物污染。

    • 叠层设备:采用高精度叠层机,支持自动对位和压力均匀分布。


三、常见问题与解决方案

  1. 对位精度不良

    • 原因:吸着板平面度偏差、搬送装置间隙不当、静电影响。

    • 处理:使用感压纸检测平面度,优化吸着板真空流量,增加吹风量消除静电。

  2. 巴块分层或折角

    • 原因:预压力不足、膜片粘性差、剥离效果不佳。

    • 处理:调整预压参数,更换高粘性膜片,优化剥离速度。

  3. 层数不符

    • 原因:印刷漏层、叠层计数错误。

    • 处理:加强印刷质量检查,采用自动化叠层设备。


四、工艺重要性

叠层工序直接影响MLCC的容量、耐压性及可靠性。例如,错位方式决定电极引出方向,层间结合度影响介质损耗(DF值)和绝缘电阻(IR)。目前,国内企业如达利凯普已掌握射频微波MLCC叠层核心技术,市场竞争力显著。

如需更详细的参数设置或设备选型,可参考相关技术文档。

芯片清洗剂选择:

水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。

污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。

这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。

合明科技研发的水基清洗剂配合合适的清洗工艺能为芯片封装前提供洁净的界面条件。

合明科技运用自身原创的产品技术,满足芯片封装工艺制程清洗的高难度技术要求,打破国外厂商在行业中的垄断地位,为芯片封装材料全面国产自主提供强有力的支持。

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