水基清洗剂选择有哪些要求
电子行业工艺制程发展迅速，很多电子产品制造工艺为了提高耐用性、稳定性和安全环保要求，都在电子制程清洗环节广泛使用水基清洗剂，那么水基清洗剂该如何选择？水基清洗剂选择有哪些要求呢？
水基清洗剂选择应满足以下要求：
1、水基清洗剂使用成本低，不能造成过多的资源消耗和成本支出。
2、兼容性好，对清洗对象的损伤应在生产许可的限度内，对金属可能造成的腐蚀有相应的抑制措施。
3、清洗过程不在清洗对象表面残留，清洗后不形成新的有害物质，不影响后续工序的产品质量。
4、水基清洗剂要对清洗对象有很强的反应、分散或溶解清除能力，在较短的时间内，可有效彻底地除去污染物。
5、水基清洗剂清洗条件温和，尽量不依赖于附力口的强化条件，如对温度、压力、设备等无过高要求。
6、清洗剂对生物与环境无毒或低毒，所生成的废气，废液与废渣，处理后需符合国家相关法规的要求。
【阅读提示】
以上为本公司一些经验的累积，因工艺问题内容广泛，没有面面俱到，只对常见问题作分析，随着电子产业的不断更新换代，新的工艺问题也不断出现，本公司自成立以来不断的追求产品的创新，做到与时俱进，熟悉各种生产复杂工艺，能为各种客户提供全方位的工艺、设备、材料的清洗解决方案支持。
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